负责半导体事业的高管翻开了技术报告。

“截至今年一月底，集团零点三五微米制程已经完成第一阶段试生产，现有实验设备基本能够满足小批量制造的要求。不过，由于几条产线分别分布在不同地区，设备型号和工艺标准尚未完全统一，目前仍然需要继续改善良率和生产成本。”

“从国际市场来看，目前已经投入大规模商业化生产的主流芯片，大多仍然采用零点六至零点八微米左右的工艺。部分领先企业正在向零点五微米及更先进的制程推进，但零点三五微米距离真正普及，还有一段时间。”

“因此，如果能够在今年内完成工艺统一，让现有生产线具备稳定的商业化生产能力，我们就有机会在先进制程的产业化方面取得明显领先。”

说到这里，他又翻过一页。

“至于零点二五微米，目前已经...

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